x射線熒光分析儀的產(chǎn)品特點(diǎn)

　　隨著x射線熒光分析儀的不斷完善和發(fā)展，x射線熒光分析技術(shù)已廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、礦產(chǎn)、石油、化工、生物、醫(yī)療、刑偵、考古等多個(gè)部門和領(lǐng)域。x射線熒光光譜分析不僅成為化學(xué)元素的材料和階段,化學(xué)、固體結(jié)構(gòu),測(cè)試實(shí)物證據(jù)材料、產(chǎn)品和材料質(zhì)量的無(wú)損檢測(cè),對(duì)人體的醫(yī)學(xué)檢查和微光刻等重要的分析手段,檢查電路、和材料科學(xué)、生命科學(xué)、環(huán)境科學(xué)等廣泛采用一種更快速、準(zhǔn)確的分析方法和經(jīng)濟(jì)元素。同時(shí)，x射線熒光分析儀也是現(xiàn)場(chǎng)分析和過(guò)程控制分析的選擇儀器之一。

　　在痕量組分的測(cè)定中，x射線管連續(xù)x射線產(chǎn)生的散射線會(huì)產(chǎn)生較大的背景，難以觀察到目標(biāo)峰。為了減少或消除的背景和特征譜線的散射x射線高靈敏度分析、熒光分析儀的影響配置了4種過(guò)濾器可以自動(dòng)開關(guān),有效地降低了背景和散射光的干擾,調(diào)整敏感的輻射,進(jìn)一步提高信噪比,可以更高靈敏度的痕量分析。

　　x射線熒光分析儀廠家的x射線管連續(xù)x射線產(chǎn)生的散射線會(huì)產(chǎn)生較大的背景，軟件可以自動(dòng)過(guò)濾背景對(duì)分析結(jié)果的干擾。這確保了快速和準(zhǔn)確的分析任何塑料樣品。

　　當(dāng)某些元素的電子從高能級(jí)躍遷到低能級(jí)時(shí)，釋放的能量是相似的，這就會(huì)使此時(shí)的光譜波峰重疊這就產(chǎn)生了重疊的峰。開發(fā)的軟件自動(dòng)條帶重疊峰，保證了元素分析的正確性。

　　逃逸峰是指由于探測(cè)器的靈敏物質(zhì)對(duì)本身的特征X射線是透明的，因此它很容易穿過(guò)靈敏區(qū)域而不被記錄，損失掉一特定的能量，在全能峰的低能側(cè)出現(xiàn)的一個(gè)譜峰。由于采用硅針半導(dǎo)體探測(cè)器，所以當(dāng)x射線熒光進(jìn)入探測(cè)器時(shí)，如果有一定的元素含量越高或能量越高，越有可能被硅吸收。在這一點(diǎn)上，光譜圖中元素的能量該值減去Si能值產(chǎn)生一個(gè)峰值，即逃逸峰值。在電壓不穩(wěn)定的情況下，掃描譜的漂移可以自動(dòng)跟蹤和補(bǔ)償。